优质钛圆靶 细节

钛圆靶；

靶材的主要性能要求

 ；杂质含量

 ；目标固体中的杂质以及孔隙中的氧气和水蒸气是沉积膜的主要污染源。用于不同目的的不同靶材对不同杂质含量有不同的要求。例如，半导体工业中使用的纯铝和铝合金靶材对碱金属含量和放射性元素含量有特殊要求。

纯度

 ；纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能有很大影响。但在实践中，靶材的纯度是不一样的。例如，随着微电子工业的快速发展，硅片尺寸从6英寸、8英寸发展到12英寸，布线宽度从0.5微米减少到0.25微米、0.18微米甚至0.13微米。过去，99.995%的目标纯度可以满足0.35UMIC的技术要求。0.18微米线的制备需要99.999%甚至99.9999%的目标材料纯度。

密度

 ；为了降低靶材固体中的孔隙率并改善溅射薄膜的财产，通常要求靶材具有高密度。靶密度不仅影响溅射速率，还影响薄膜的电学和光学财产。靶密度越高，薄膜性能越好。此外，增加靶材的密度和强度使其能够更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

99.99%纯度钛溅射靶材的产品描述

项目名称	钛溅射靶
类型	金属靶
纯洁	定制的
规格	定制的
颜色	银色的
形状	平面，圆形
证明书	ISO9001:2008，SGS，第三次检测报告
等级	工业级
用法	薄膜涂层
应用	广泛应用于光学、光子学、纳米材料、PDP、触摸板行业、太阳能电池、太阳能光伏应用、装饰装修等涂料加工行业的科研和工业生产领域

纯钛靶材
我们接受定制比例、纯度和形状。
比率：TiAl5 at%，TiAl10 at%，Ti Al20 at%，Si Al25 at%，Al 30 at%，Ta Al40 at%，Mo Al50 at%。。。
纯度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%。
形状：圆形、平面、管状、弧形、多层瓷砖。。。

杂质含量

比率	Ti-75Al含量%	Ti-70Al含量%	Ti-67Al含量%	Ti-60Al含量%	Ti-50Al含量%	Ti-30Al含量%	钛-20Alat%	Ti-14Al含量%
纯度（%）	99.7	99.7	99.7	99.7	99.8/99.9	99.9	99.9	99.9
密度（g/cm3）	3.1	3.2	3.3	3.4	3.63/3.85	3.97	4.25	4.3
粒度（µm）	100	100	100	100	100/-	-	-	-
生产	臀部	臀部	臀部	臀部	髋关节/VAR	变量	变量	变量

钛靶

产品纯度：99.5%、99.7%、99.8%、99.9%、99.95%、99.99%、99.99%和99.995%。

我们提供形状尺寸：平面靶标、圆柱形靶标、弧形靶标、异形靶标等等。

钛是一种银白色过渡金属，原子序数为22，原子量为47.867，具有重量轻、强度高、金属光泽和耐湿氯腐蚀的特点。α钛是六方晶系，β钛是立方晶系。转变温度为882.5°C。熔点（1660±10）°C，沸点3287°C，密度4.506g/cm3。溶于稀酸，不溶于冷水和热水；耐海水腐蚀性非常强。钛是20世纪50年代发展起来的一种重要结构金属，钛合金具有密度低、比强度高、耐腐蚀性好、导热系数低、无毒无磁、可焊接、生物相容性好、表面装饰性强等特点，广泛应用于航空、航天、化工、石油、电力、医疗、建筑、，体育用品和其他领域。